Visão geral do fotorresiste
O fotorresiste, também conhecido como fotorresistente, refere-se a um material de película fina cuja solubilidade se altera quando exposto à luz ultravioleta, feixes de elétrons, feixes de íons, raios X ou outras radiações.
É composto por uma resina, um fotoiniciador, um solvente, um monômero e outros aditivos (ver Tabela 1). A resina fotorresistente e o fotoiniciador são os componentes mais importantes que afetam o desempenho do fotorresiste. É utilizado como revestimento anticorrosivo durante o processo de fotolitografia.
No processamento de superfícies semicondutoras, o uso de um fotorresiste adequadamente seletivo pode criar a imagem desejada na superfície.
Tabela 1.
| Ingredientes do fotorresistente | Desempenho |
| Solvente | Isso torna o fotorresiste fluido e volátil, e praticamente não afeta as propriedades químicas do fotorresiste. |
| Fotoiniciador | Também conhecido como fotossensibilizador ou agente de fotocura, é o componente fotossensível do material fotorresistente. Trata-se de um composto que se decompõe em radicais livres ou cátions e inicia reações de reticulação química em monômeros após absorver energia de luz ultravioleta ou visível de um determinado comprimento de onda. |
| Resina | São polímeros inertes que atuam como aglutinantes para manter unidos os diferentes materiais em um fotorresiste, conferindo-lhe suas propriedades mecânicas e químicas. |
| Monômero | Também conhecidos como diluentes ativos, são pequenas moléculas que contêm grupos funcionais polimerizáveis e são compostos de baixo peso molecular que podem participar de reações de polimerização para formar resinas de alto peso molecular. |
| Aditivo | É utilizado para controlar as propriedades químicas específicas dos fotorresistores. |
Os fotorresistores são classificados em duas categorias principais com base na imagem que formam: positivos e negativos. Durante o processo de fotorresiste, após a exposição e revelação, as porções expostas do revestimento são dissolvidas, restando as porções não expostas. Esse revestimento é considerado um fotorresistor positivo. Se as porções expostas permanecerem enquanto as porções não expostas são dissolvidas, o revestimento é considerado um fotorresistor negativo. Dependendo da fonte de luz e radiação de exposição, os fotorresistores são ainda categorizados como UV (incluindo fotorresistores UV positivos e negativos), fotorresistores UV profundo (UV-C), fotorresistores de raios X, fotorresistores de feixe de elétrons e fotorresistores de feixe de íons.
A fotorresistência é usada principalmente no processamento de padrões de alta resolução em painéis de exibição, circuitos integrados e dispositivos semicondutores discretos. A tecnologia de produção da fotorresistência é complexa, com uma ampla variedade de tipos e especificações de produtos. A fabricação de circuitos integrados na indústria eletrônica impõe requisitos rigorosos à fotorresistência utilizada.
A Ever Ray, fabricante com 20 anos de experiência especializada na produção e desenvolvimento de resinas fotocuráveis, possui uma capacidade de produção anual de 20.000 toneladas, uma linha de produtos completa e a possibilidade de personalização. Em fotorresistentes, a Ever Ray tem a resina 17501 como principal componente.
